AI 驅動的下一代半導體曝光與微影技術平台。 研究 DUV、EUV、High-NA EUV、 AI Predictive Lithography、 Digital Twin 與智慧半導體製造。
Master AI Light 聚焦下一代智慧曝光、光學控制、 奈米級定位與 AI 製程最佳化。
ArF / Immersion Lithography 研究平台。
13.5nm EUV 曝光與 Digital Twin 研究中心。
下一代 High-NA 光學、曝光與先進節點研究。
不是曝光後才發現錯誤， 而是在曝光前由 AI 預測並校正。
光源穩定度、功率、 Pulse 與狀態監控。
Wavefront、 Mirror、 Thermal Drift 預測與補償。
Wafer 與 Reticle Digital Twin 同步控制模型。
CD、Overlay、 Focus 與 Defect 分析。
2nm、4nm、7nm 製程研究 Recipe 管理。
連接 IC Design、 Tape-Out 與 Manufacturing。
Lithography OS + Digital Twin + AI Simulation
DUV Prototype + Stage + Optics Control Research
EUV / High-NA Advanced Lithography Research Platform